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蒸發(fā)鍍膜

  • EBPVD設(shè)備
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EBPVD設(shè)備

  • EBPVD設(shè)備
  • 小批產(chǎn)型EBPVD設(shè)備
  • 科研型EBPVD設(shè)備
  • 產(chǎn)品描述:EBPVD設(shè)備,科研型EBPVD設(shè)備,小批產(chǎn)型EBPVD設(shè)備
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EBPVD設(shè)備介紹

一、科研型EBPVD設(shè)備

應(yīng)用場(chǎng)景

占地小,適合科研院所及高校進(jìn)行EBPVD涂層工藝研究基體溫度穩(wěn)定可控,可精準(zhǔn)控制不同微觀組織形態(tài)多坩鍋情況下可進(jìn)行切換進(jìn)行不同材料的涂層沉積適用于航空領(lǐng)域和光電領(lǐng)域的薄膜類沉積。

技術(shù)參數(shù)

電子槍功率:15kW100kW可選)

電子槍數(shù)量:1個(gè)

主軸數(shù)量:1個(gè)(2個(gè)可選)

沉積面積:20 cm X 20 cm

坩鍋數(shù)量:1個(gè)(多個(gè)可選)

靶材裝載:200-250 mm

加熱模式:石墨加熱(電子槍加熱可選)

旋轉(zhuǎn)模式:自轉(zhuǎn)(可偏轉(zhuǎn))

占地面積:20 m2

單腔室科研型設(shè)備 雙腔室雙靶材科研型設(shè)備

二、小批產(chǎn)型EBPVD設(shè)備

應(yīng)用場(chǎng)景

采用大功率電子槍,沉積視窗面積滿足航空發(fā)動(dòng)機(jī)渦輪葉片的熱障涂層沉積制備需求零件沉積具備自轉(zhuǎn)和偏擺多自由度,可應(yīng)對(duì)葉身和緣板的共沉積需求可采用石墨+電子槍復(fù)合加熱,提高生產(chǎn)效率在配備雙主軸的情況下,可達(dá)到Smart Coater的同等生產(chǎn)效率和沉積效果

技術(shù)參數(shù)

電子槍功率:100kW150kW可選)

電子槍數(shù)量:1個(gè)

主軸數(shù)量:1個(gè)(2個(gè)可選)

沉積面積:40 cm X 40 cm

坩鍋數(shù)量:1個(gè)(2個(gè)可選,分步沉積)

靶材裝載:750 mm

加熱模式:石墨加熱(電子槍加熱可選)

多軸模式:自轉(zhuǎn)+擺臂

占地面積:50 m2

電子槍參數(shù)

電子槍類型:直熱式電子槍

電子槍功率:0-100KW/單槍(可選配升級(jí)功率)

陰極連續(xù)工作時(shí)長(zhǎng):>100h

加速電壓:10KV-30KV可調(diào)

最小光斑尺寸:直徑10mm

掃描頻率:0-100Hz

聚焦電流:0-2A

最低工作真空:5E10-1Pa

三腔室設(shè)備

在裝載室配有電子槍輔助加熱,更快的提高零件的預(yù)熱效率,提高零件的生產(chǎn)效率,雙主軸設(shè)計(jì)可以進(jìn)行不間斷生產(chǎn),靶材裝載量的提高有助于提升每日生產(chǎn)效率

多軸旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)

具有穩(wěn)定的三工位多軸旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),能夠更好的適配葉片葉身和緣板的沉積結(jié)合強(qiáng)度和微觀組織要求。對(duì)于導(dǎo)向葉片的上下緣板也可同時(shí)進(jìn)行沉積,提升零件的涂層質(zhì)量。

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