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原子層沉積

  • 量產(chǎn)型原子層沉積
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量產(chǎn)型原子層沉積

  • 小批量生產(chǎn)
  • 工業(yè)級應用
  • 全自動操作
  • 超高性價比
  • 產(chǎn)品描述:量產(chǎn)型原子層沉積,工業(yè)級原子層沉積,Mass Production Atomic Layer Deposition,ALD,小批量生產(chǎn)原子層沉積設(shè)備
  • 在線訂購

特殊的腔體設(shè)計和工藝設(shè)計,可以使得ALD技術(shù)應用于工業(yè)量產(chǎn),并且可以最大程度提高鍍膜效率。矽碁可根據(jù)用戶的需求定制設(shè)備。


技術(shù)參數(shù):

1 不銹鋼腔體,雙層加熱設(shè)計;

2 等離子體增強模塊集成于腔體上蓋;

3 進口高速ALD隔膜閥;

4 基片尺寸可以定制;

5 基片最高加熱400℃;

6 最多可提供6路前驅(qū)物和6路工藝氣體;

7 氣路全金屬密封,并可加熱至120℃;

8 可提供前驅(qū)體鋼瓶加熱或冷卻;

9 可全自動控制工藝過程,同時也可以手動操作。

10 量產(chǎn)型設(shè)計,可以全自動化


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