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• 磁控濺射系統(tǒng)（共濺射）

  共濺射式磁控濺射系統(tǒng)，支持2-6只靶槍，2-6寸樣品，適合微米以下厚度的薄膜制備，金屬薄膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物薄膜，合金薄膜，多組分薄膜均可制備。

• 磁控濺射（超高真空式）

  超高真空濺鍍，UHV Sputtering，兼容UHV E-Beam

• 磁控濺射（多陰極多工位式）

  多片式磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，Magnetron sputtering deposition，sputtering